第九六四章 计划赶不上变化 (第2/2页)
　　
　　光刻机公司包括光刻机光源厂、光刻机双工作台厂和光刻机组装厂。
　　
　　八栋小高层已经住进了员工及家属，四栋已完成装修，四栋正在装修，四栋还没有封顶。
　　
　　“孙总，四十五所、建华机械厂、沪海光学精密机械研究所、沪海光学仪器厂的386名技术人员和一线员工已经住进新宿舍，还有143名二线员工将于九月十五日前搬迁完毕，十月十五日前，219名微电子中心和109厂的技术人员和普通员工将全部完成搬迁。”
　　
　　魏建国、李昌杰和钱国培汇报搬迁工作。
　　
　　上周四，魏建国、邓国辉代表BSEC同艾德里安、汤普森代表的GCA进行了谈判，大家同一个大老板，如同一家人，气氛融洽，最后BSEC以磁悬浮式光刻机双工作台系统专利交换了GCA拥有的ArF准分子激光器专利和800nm制程工艺专利的终身使用权和开发权，魏建国和艾德里安分别代表双方公司签订了专利技术转让协定，邓国辉、汤普森和双方律师也签上自己的名字，盖上公章。
　　
　　转让协定还规定，在对方专利技术基础上开发的产品只能在自己生产的光刻机上使用，不能单独卖给第三方，利用对方的专利技术开发新的专利技术，不能申请公司发明专利，专利方有权申请新的公司发明专利，使用和转让。
　　
　　BSEC转让磁悬浮式光刻机双工作台系统的专利技术（还没有取得公司发明专利证书）给GCA，获得了专利局审核委员会的批准。
　　
　　特事特办！
　　
　　GCA相当于在4英寸晶圆、1.5um制程工艺的磁悬浮式双工作台系统上升级到8英寸晶圆、500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统， 虽然对掌握了6英寸晶圆、800nm制程工艺的GCA来说不难，但也要投入资金、人员和时间。
　　
　　GCA在磁悬浮式双工作台系统专利技术上研发成功的所有双工作台系统技术都属于BSEC。
　　
　　BSEC光源研究所从立项和研发成功具有自主知识产权的ArF准分子激光器，邓国辉需要2000万元的研发资金，计划三年内完成。
　　
　　半导体产业发展日新月异，三年后，要不是被193nm波长的世界性光学难题卡住了，尼康光刻机的制程工艺早就超过了65nm！
　　
　　本章未完，点击[下一页]继续阅读-->>
　　
　　【我的一九八五】　【】
　　
　　如同神助！
　　
　　不然BSEC将越掉越远！
　　
　　800nm制程工艺专利技术对于GCA如同鸡肋，但对于BSEC来说如同神助，一下子跨过1um制程工艺，掌握了800nm制程工艺，但BSE制程工艺专利技术的基础上，研发成功500nm、350nm、250nm、180nm、90nm等制程工艺专利技术都属于GCA。
　　
　　互利共赢！
　　
　　BSEC和GCA的专利技术转让也是一柄双刃剑！
　　
　　台面上，GCA似乎吃了亏，但重生者不这样认为。
　　
　　()
　　
　　://